半导体芯片制造工艺日趋精密化，CMP化学机械抛光作为晶圆制程核心工序，抛光液内部过氧化氢氧化剂含量、车间环境气态残留浓度，是影响芯片生产良率与无尘车间生产环境的两大核心管控指标。
传统依靠人工经验配比抛光液、无专业设备监测车间挥发气体的管控模式，已经无法满足先进制程半导体生产严苛标准，极易出现工艺波动、产品不良、洁净室环境超标等多重生产问题。
科尔诺GT-1000便携式过氧化氢检测仪，深度贴合半导体晶圆厂无尘车间使用环境与CMP工艺检测需求，从原料验收、制程在线监测、成品残留核验、车间环境安防全维度实现浓度数字化管控。
仪器核心传感元件采用进口定制电化学模块，低浓度捕捉能力强，多量程适配半导体行业高低不同检测场景；特氟龙无吸附采样管路杜绝检测污染，符合半导体行业高洁净使用要求；机身易擦拭、无积尘死角、长续航、高防护，完美适配百级、千级无尘车间日常巡检作业。
完整的数据记录导出体系，可将每日CMP工序浓度检测数据统一归档，建立长期工艺数据库，为生产工艺迭代、制程参数优化、品质异常溯源提供精准可靠的数据支撑。同时设备拓展性极强，可叠加粉尘颗粒物监测功能，一站式完善洁净室多维度环境管控工作。
搭载智能故障自检系统，降低设备运维难度，减少产线停工检修时长，在保障检测数据精准可靠的前提下，最大限度适配半导体企业高效率、高精密、高洁净的现代化生产模式，是半导体工厂工艺管控、EHS环境安防必备精密检测仪器。
